光電化學(xué)工作站可以根據(jù)自己的需要做更多的探索
點(diǎn)擊次數(shù)：5451 更新時(shí)間：2019-10-25
光電化學(xué)工作站是將光化學(xué)與電化學(xué)方法合并使用，以研究分子或離子的基態(tài)或激發(fā)態(tài)的氧化還原反應(yīng)現(xiàn)象、規(guī)律及應(yīng)用的儀器，可用于研究光直接影響電極過(guò)程的電化學(xué)、用于光能與電能和化學(xué)能的轉(zhuǎn)換測(cè)量、光電化學(xué)電池的光電轉(zhuǎn)化測(cè)量、光電合成。利用光電化學(xué)原理可以富集稀有金屬和貴金屬，又可以記錄和保存信息，還可用簡(jiǎn)單的方法隨時(shí)消去信息，這些都是發(fā)展科學(xué)技術(shù)所必需的手段。
光電化學(xué)工作站采用閉環(huán)控制技術(shù)調(diào)節(jié)和調(diào)制光強(qiáng)和單色光, 從而保證了光源的穩(wěn)定性. 在儀器匹配的光源內(nèi)裝有光強(qiáng)傳感器, 工作時(shí)系統(tǒng)自動(dòng)比較并計(jì)算測(cè)得的實(shí)際光強(qiáng)與設(shè)定值的偏差并加以校正,這樣就消除了由于光源器件的非線性、老化、以及溫度漂移產(chǎn)生的光強(qiáng)輸出誤差。不僅如此，光電化學(xué)工作站儀器還允許直接輸入單位為(W/cm2)的具體數(shù)值校正光源，非常方便。該工作站負(fù)責(zé)控制、驅(qū)動(dòng)激發(fā)光源，輸出強(qiáng)度調(diào)制光信號(hào)。
一、其他常規(guī)的電化學(xué)方法
恒電位技術(shù)：開(kāi)路電位&時(shí)間測(cè)量曲線、單電位階越計(jì)時(shí)電流法、雙電位階越計(jì)時(shí)電流法、單電位階越計(jì)時(shí)電量法、
雙電位階越計(jì)時(shí)電量法、恒電位電解庫(kù)侖分析法；
線性掃描技術(shù)：線性掃描伏安法、循環(huán)伏安法、塔菲爾（Tafel）曲線測(cè)量、線性掃描溶出伏安法；
脈沖技術(shù)：微分脈沖伏安法、微分脈沖溶出伏安法；
方波技術(shù)：方波伏安法、方波溶出伏安法(EIS，CV等所有電化學(xué)功能)。
二、光電化學(xué)工作站支持的應(yīng)用
支持的直流實(shí)驗(yàn)技術(shù)：
循環(huán)伏安、線性掃描、開(kāi)路電位、計(jì)時(shí)電流/計(jì)時(shí)庫(kù)倫、線性掃描計(jì)時(shí)電流、計(jì)時(shí)電位、差分脈沖伏安、常規(guī)脈沖伏安、方波伏安、三角波伏安、馳豫伏安、階梯伏安、Tafel掃描、脈沖電鍍、溶出伏安
支持的交流技術(shù)：
交流阻抗（EIS）、不同參數(shù)下的交流阻抗（如：莫特-肖特基等）、頻響分析
支持的充放電方法：
恒電流充放電、恒電壓充放電、恒電阻放電、恒功率放電、滿功率放電、限制容量充放電、充放電期間的電化學(xué)阻抗測(cè)試、穩(wěn)態(tài)電流/電壓曲線
三、光電化學(xué)工作站軟件操作靈活
1、采用更易于接觸的類(lèi)office風(fēng)格測(cè)試界面，所有命令一目了然的顯示于下拉菜單之中，使初學(xué)者能夠在Z短的時(shí)候內(nèi)熟悉軟件操作，并且開(kāi)放源代碼給用戶，可以根據(jù)自己的需要做更多的探索。
2、軟件強(qiáng)大的編程能力，光電化學(xué)工作站用戶可根據(jù)對(duì)實(shí)現(xiàn)體系的設(shè)計(jì)和理解，做上述所有電化學(xué)方法和電化學(xué)過(guò)程的組合，而這些操作，僅通過(guò)鼠標(biāo)即可實(shí)現(xiàn)。
3、離線分析處理，電化學(xué)軟件可脫機(jī)使用，從而避免了分析數(shù)據(jù)需要占用測(cè)試電腦的尷尬，而數(shù)據(jù)處理的地點(diǎn)也可以更加的輕松隨意。
